ASML鎖定台積電、三星和英特爾，高端AI晶片製造再進一步
asml獲得台積電、三星和英特爾的承諾，採用其高數值孔徑極紫外光刻機，這是一種構建先進AI晶片的關鍵技術。這筆交易鞏固了ASML在市場上的地位。
asml，全球唯一的 euv 微影設備製造商，已獲得領先晶片製造商 tsmc、samsung 和 intel 的承諾，將採用其 high-na euv 微影技術。tsmc 計劃於 2030 年開始使用這些設備，samsung 於 2028 年，而 intel 的設備已投入運作。這筆交易涉及轉向更大的 12 吋光罩，這可能使 high-na 機台的產量提升 40%。這項發展對先進 ai 晶片的生產至關重要。與此同時，huawei 正試圖打破中國對 asml 技術的依賴。